當前位置:珀金埃爾默企業管理(上海)有限公司>>技術文章展示
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2025
07-252025
05-20電感耦合等離子體質譜儀NexION2000,守護健康與生態未來
在食品安全危機頻發、環境污染威脅加劇、先進制造精度要求日益嚴苛的當下,全球實驗室正面臨分析挑戰:如何從復雜基體中精準捕捉超痕量有毒元素?如何實現納米級顆粒與單細胞層面的微觀檢測?如何應對法規迭代與檢測通量的雙重壓力?珀金埃爾默(PerkinElmer)推出的NexION®2000電感耦合等離子體質譜儀(ICP-MS),以“全基體適應性、全干擾突破性、全場景高效性”三大核心價值,為這些問題提供了解決方案。一、技術破局:從“應對干擾”到“定義分析自由度”傳統ICP-MS在面對復雜基體或超痕量檢測時,2025
05-072025
03-20珀金埃爾默QSight LC-MS/MS:應對水質新標準,精準檢測全氟化合物
全氟辛基磺酸(PFOS)和全氟辛酸(PFOA)作為環境中廣泛存在的持久性有機污染物,因其難以降解且可能對人類健康和生態系統構成嚴重威脅,而備受關注。隨著我國生態環境部發布的新標準HJ1333-2023的實施,如何高效、精準地檢測水質中的這些全氟化合物,成為了環保領域亟待解決的重要問題。珀金埃爾默公司憑借其先進的QSightLC-MS/MS液質聯用系統,為這一挑戰提供了創新性的解決方案。該系統結合了高性能液相色譜(UHPLC)與三重四極桿質譜技術,能夠實現對全氟化合物的高靈敏度、高選擇性的檢測。在2025
02-20使用NexION 2200 ICP-MS分析半導體級鹽酸中的元素雜質
在半導體制造中,使用的所有組件必須為超高純度,以確保最終產品的最佳性能。RCA清潔液(SC),通常被稱為SC-2(清潔液2)或HPM(過氧化氫混合物),是鹽酸(HCl)和過氧化氫(H2O2)的混合物。該溶液廣泛用于清除硅晶片表面的離子和金屬污染物。這種清潔溶液與半導體器件直接接觸,所以它必須是最純的。因此,需要超高純度HCl來制備該溶液。根據SEMI標準C27-0918Tier-D1方案,高純度HCl中的每種元素的污染水平應低于10兆分之一(ppt)。電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)已廣泛應2025
01-072024
12-272024
12-252024
12-062024
11-232024
11-202024
11-082024
10-182024
10-152024
10-112024
10-082024
09-262024
09-252024
09-022024
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