光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統PR-PD3

外形小巧、運營成本低、應用范圍廣光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統PR-PD3系列產品運轉效率高，具有*穩定性，受到眾多半導體制造工廠的高度評價。繼承了各個結構簡單、*穩定運轉的搬運系統，高通過量、可靠性高的光學系統。以及具有防誤測功能等高性能設備并巧妙組合成一個整體的產品就是PR-PD3。和以往的機型(PR-PD2)相比，它的外形尺寸小了約1/2，追求低運營成本。檢測靈敏度達到0.5μm，具有廣泛通用性。誕生了可以用來滿足光掩模(reticle/mask)上異物檢測這一廣泛需求的簡便裝置。

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統PR-PD3特征

• 和以往機型相比，設計小了1/2左右。 和PR-PD2相比較，底面面積小了1/2，實現了小巧化。由于占地面積大幅變小，所以即使添加操作裝置(可選件)，也可以自由地進行布局。
• 實現了低運營成本。 采用激光中具有超群經濟性的氦氖激光，同時，采用了結構簡單的載物臺搬運系統等，大幅度地降低了維護運營成本。
• 有效的防誤測措施。 搭載有粗圖案用的偏振差動和細微圖案用的低通差動這二個功能。通過同時使用這二種方法，可以有效地防止OPC等具有兩種特性的圖案誤檢測。