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    磁控濺射陰極技術(shù)及特點

    時間:2015-4-22閱讀:2069
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    磁控濺射陰極核心技術(shù)及特點:
     
    1.特殊設(shè)計的磁體結(jié)構(gòu),使得磁場線跨度范圍更寬,從而提高靶材的利用率和膜層的均勻性
    2.湍流冷卻技術(shù),使得水流能夠更平緩的進入陰極,從而提高冷卻效果
    3.特殊設(shè)計的耙材固定結(jié)構(gòu),使得耙材更換起來更簡單,降低停工期
    4.*的磁體材料 NdFeB,他的強度比其他的稀土磁體要強30%
     
    磁控濺射陰極優(yōu)勢
     
    1.*的靶材利用率,zui高可以達到50%,從而降低靶材成本
    2.*的產(chǎn)品均勻性,zui高可以達到±3% 
    3.可以在更低的真空以及更高的功率下運行:zui低壓力可以達到10-4TOR
    4.我們的直接水冷結(jié)構(gòu)可以提高其功率密度達到250Watt s/in2
    5.提高沉積速率
    6.多樣的復(fù)合設(shè)計
    7.高標(biāo)準(zhǔn)率

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