【儀表網(wǎng) 儀表標準】全國新材料與納米計量技術委員會為了使國家計量技術規(guī)范能廣泛適用和更具可操作性，特向全國有關單位征求《X射線能譜儀校準規(guī)范》意見和建議，征求意見截止時間為2019年12月31日。意見反饋郵箱MTC29@nim.ac.cn。
此次征求意見是根據(jù)國家市場監(jiān)督管理總局2018年國家計量技術法規(guī)制/修訂計劃，受全國新材料與納米計量技術委員會的委托，由山東省計量科學研究院、中國計量科學研究院和蘇州市計量測試院負責制定《X射線能譜儀校準規(guī)范》技術規(guī)范的工作。
X射線能譜儀是對材料微區(qū)成分元素種類與含量進行分析的一種儀器。近幾十年來, 隨著掃描電子顯微鏡、電子探針儀和透射電子顯微鏡的普及，這些大型分析儀器也都相應地裝配了X射線能譜儀，廣泛地應用于冶金學、地質(zhì)學、物理學、動物學、醫(yī)藥學、環(huán)保學等科學領域，分析的對象包括半導體材料、電子封裝材料、催化劑、聚合物、建材、生物材料等，是應用廣泛的元素分析儀器之一。
本規(guī)范主要依據(jù)JJF1071-2010《國家計量校準規(guī)范編寫規(guī)則》進行編制，JJF1001-2011《通用計量術語及定義》、JJF1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》、JJF 1094-2002《測量儀器特性評定》共同構成支撐校準規(guī)范制定工作的基礎性系列規(guī)范。
本規(guī)范為制定，主要技術內(nèi)容和計量特性參考了GB/T 17359-2012《能譜法定量分析》、GB/T 20726《半導體探測器X射線能譜儀通則》、GB/T 21636—2008 微束分析 電子探針顯微分析(EPMA)術語和GB/T 25189-2010《微束分析 掃描電鏡能譜儀定量分析參數(shù)的測定方法》的部分內(nèi)容。
由于儀器原理、操作條件和試樣標準的不同，本標準僅適用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子探針儀(EPMA)裝配的X射線能譜儀。在校準前，需確保儀器處于正常的工作狀態(tài)及沒有影響校準計量性能的因素。所用的標準樣板應確保表面潔凈，避免劃痕、腐蝕和氧化。X射線能譜儀應預熱30分鐘以上，直至工作穩(wěn)定。(具體內(nèi)容詳見附件)
資料來源：全國新材料與納米計量技術委員會
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