隨著微納科技與微納產業的快速發展，各類電子和光學顯微鏡在微納技術領域的保有量迅速增加。納米光柵線距樣板作為傳遞標準廣泛應用于掃描電子顯微鏡、掃描探針顯微鏡以及光學顯微鏡的放大倍率的校準，是各類顯微鏡測量準確性的保證。
2006年，中國計量科學研究院研制的激光衍射儀參加了Nano5 二維光柵比對。2007年，中國計量科學研究院依據自編校準方法“NIM-ZY-DL-CD-501”建立了計量標準“納米光柵線距樣板校準裝置”。該自編校準方法沿用至今。目前，國內尚沒有合適的標準文件規范校準納米光柵線距的方法和行為，因此迫切要求編制相應的校準規范，以保證量值溯源的準確和統一。
根據市場監管總局2018年國家計量技術規范制定、修訂計劃，受全國新材料與納米計量技術委員會的委托，由中國計量科學研究院負責制定《激光衍射法納米光柵線距校準規范》，同濟大學作為參加單位參與了本技術規范的制定工作。
JJF1001《通用計量術語及定義》、JJF1071《國家計量校準規范編寫規則》、JJF1059《測量不確定度評定與表示》共同構成支撐本校準規范制定工作的基礎性系列規范。
在本規范編制過程中，重點參照了以下國家標準及計量技術規范：JJF 1001-2011 通用計量術語及定義；JJF 1059.1-2012 測量不確定度評定與表示；JJF 1071-2010 國家計量校準規范編寫規則GB/T 13962-2009 光學儀器術語；IEC/TS 62622:2012 Nanotechnologies – Description, measurement anddimensional quality parameters of artificial gratings。
按照JJF 1071—2010《國家計量校準規范編寫規則》的要求制定納米光柵線距的衍射法校準規范，在內容和格式上與JJF 1071-2010 保持一致。校準規范的具體內容有范圍、引用文件、概述、計量特性、校準條件、校準項目和校準方法、校準結果的表達、復校時間間隔等。(更多詳情請見附件)。
本規范為發布，適用于反射光柵的校準。
所有評論僅代表網友意見，與本站立場無關。