優(yōu)點
操作簡單
● 無論您是在分析一個薄膜樣品、有機聚合物、一個大的塑料鏡片、不銹鋼刀片或焊錫球等，儀器所有的設置和設定都是相同的。操作者只需用鼠標在樣品的光學圖像上單擊選擇一個或多個分析區(qū)域，打開儀器的雙光束中和系統(tǒng)和自動Z-軸高度調整功能，就可通過儀器軟件的自動隊列（Add Q）執(zhí)行所有分析。整個操作流程不需要任何的設定調整，不用因樣品成分不一致而有任何顧慮，甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊，一切的操作都可自動完成。
圖1 - 全自動無人值守，分析無憂的XPS Quantera II
薄膜分析
● Quantera II 不僅提供了無機薄膜樣品良好的深度剖面分析性能，而且也可利用 C60 離子槍對有機薄膜得出非常的深度分析結果。
圖2 - (左) 以2 keV 氬離子濺射源對一個半導體封裝的錫球表面進行深度分析；
(右) 使用10 keV C60離子源，對50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜進行深度分析。
掃描 XPS探針
● PHI Quantera II 使用了聚焦掃描X射線源，使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示，X射線源是經由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產生的，由此產生的聚焦鋁X射線會再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當電子束掃描在鋁陽極上時，所產生的X射線束在樣品上也會作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調范圍為 7.5 微米以下到 400 微米以上。
圖3 - (a) PHI 的聚焦掃描X射線源說明。(b) 使用Quantera II 對MRS-3標樣所生的二次電子像，可見
以Quantera II 可以分析到約直徑為6微米區(qū)域的功能。
微區(qū)光譜
● 以下圖5中聚合物表面異物樣品為例。在光學顯微鏡下，透明的聚合物薄膜表面上未發(fā)現有任何污染物。而使用二次電子影像時就立即顯示了聚合物表面上污染物的存在。在短短幾分鐘內，Quantera II 儀器就可利用一個直徑為 20 微米的X射線束對污染物成分進行分析，從而確定為氟碳污染物。
圖4 - Quantera II的污染分析。(a) 二次電子成像。(b) 多點采譜分析。(c) 碳 1s的圖譜。 (d) 元素分布圖（留意分布中右邊較小點的污染不含有氟或碳）。 (e) 對較小的污染做點分析，使用7.5微米的X射線束確定了第二污染物含有鋅的存在。
特點
● X射線探針 ≤ 5 微米的空間分辨率
● 高靈敏度的靜電檢測光學系統(tǒng)
● 雙束中和系統(tǒng)
● 自動化的樣品傳輸處理
● 儀器可容納樣品直徑為 100 毫米，高度為 25 毫米
● 兩個內部樣品平臺暫停區(qū)
● 高性能的離子槍
● 高速的深度分析
● 元素態(tài)或化學態(tài)的XPS成像
● 自動角分辨分析
● PHI MultiPak 數據處理軟件
可選配件
● 樣品定位系統(tǒng) (SPS)
● 熱/冷樣品臺
● 冷樣品引入裝置
● 樣品傳輸管和外部測試站
● C60 離子槍
● Ar2500 GCIB 離子槍
應用范圍
● 化學：化學涂料，聚合物，催化劑
● 材質：金屬，薄膜，納米材料
● 電子：半導體，磁盤，微電子技術和顯示技術
● 生物醫(yī)學與生物醫(yī)學設備
