TC WAFER晶圓測溫系統(tǒng) 光刻晶圓溫度測量系統(tǒng)

TC WAFER晶圓測溫系統(tǒng) 光刻晶圓溫度測量系統(tǒng)

TC為熱電偶的簡稱， TC WAFER則是直接鑲嵌于晶圓表面的溫度傳感器，可以實(shí)現(xiàn)晶圓表面溫度的實(shí)時(shí)測量。借助于放置在晶圓表面特定位置之溫度傳感器，可獲得這些特定位置的真實(shí)溫度測量值以及整天晶圓溫度分布；同時(shí)，也可利用此傳感器來持續(xù)監(jiān)控在熱處理工程中晶圓暫態(tài)溫度變化，例如：升溫，降溫過程及延遲周期等！（溫度的均勻與否，良率）

半導(dǎo)體晶圓溫度檢測的重要性

在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中，晶圓溫度是一個(gè)至關(guān)重要的參數(shù)。不同的工藝步驟對(duì)于溫度有不同的要求，過高或者過低的溫度都會(huì)對(duì)半導(dǎo)體器件的性能產(chǎn)生負(fù)面影響。因此，準(zhǔn)確監(jiān)測和控制晶圓的溫度是保證半導(dǎo)體產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)能的關(guān)鍵。

TC WAFER晶圓測溫系統(tǒng)優(yōu)勢(shì)

它可以實(shí)現(xiàn)非接觸式測溫，不需要直接接觸晶圓表面，避免了污染和破壞的風(fēng)險(xiǎn)。其次，TC Wafter晶圓測溫具有較高的測量精度和響應(yīng)速度，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)薄膜沉積過程中微小溫度變化的準(zhǔn)確監(jiān)測。最后，TC Wafter晶圓測溫技術(shù)具有良好的重復(fù)性和穩(wěn)定性，能夠長時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行。

產(chǎn)品特點(diǎn)

半導(dǎo)體制造廠 Fab，PVD/CVD 部門、RTP 部門等使用

傳感器可以定制

高精度多通道數(shù)據(jù)采集儀

優(yōu)異的軟件功能，方便數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)、趨勢(shì)繪圖和數(shù)據(jù)導(dǎo)出

TC WAFER晶圓測溫系統(tǒng) 光刻晶圓溫度測量系統(tǒng)