聚焦離子束掃描電鏡（SEM）

聚焦離子束，Focused Ion beam

服務介紹：FIB（聚焦離子束，Focused Ion beam）是將液態金屬離子源產生的離子束經過離子槍加速，聚焦后照射于樣品表面產生二次電子信號取得電子像，此功能與SEM（掃描電子顯微鏡）相似，或用強電流離子束對表面原子進行剝離，以完成微、納米級表面形貌加工。

服務范圍：工業和理論材料研究，半導體，數據存儲，自然資源等領域

服務內容：1.芯片電路修改和布局驗證              

          2.Cross-Section截面分析                

          3.Probing Pad                                 

          4.定點切割     

掃描電鏡（SEM）

服務介紹：SEM/EDX（形貌觀測、成分分析）掃描電鏡（SEM）可直接利用樣品表面材料的物質性能進行微觀成像。EDX是借助于分析試樣發出的元素特征X射線波長和強度實現的，根據不同元素特征X射線波長的不同來測定試樣所含的元素。通過對比不同元素譜線的強度可以測定試樣中元素的含量。通常EDX結合電子顯微鏡（SEM）使用，可以對樣品進行微區成分分析。

服務范圍：，航天，半導體，*材料等

服務內容：1.材料表面形貌分析，微區形貌觀察  

          2.材料形狀、大小、表面、斷面、粒徑分布分析

          3.薄膜樣品表面形貌觀察、薄膜粗糙度及膜厚分析

          4.納米尺寸量測及標示

          5.微區成分定性及定量分析

芯片失效分析實驗室介紹，能夠依據、國內和行業標準實施檢測工作，開展從底層芯片到實際產品，從物理到邏輯全面的檢測工作，提供芯片預處理、側信道攻擊、光攻擊、侵入式攻擊、環境、電壓毛刺攻擊、電磁注入、放射線注入、物理安全、邏輯安全、功能、兼容性和多點激光注入等安全檢測服務，同時可開展模擬重現智能產品失效的現象，找出失效原因的失效分析檢測服務，主要包括點針工作站（Probe Station）、反應離子刻蝕（RIE）、微漏電偵測系統（EMMI）、X-Ray檢測，缺陷切割觀察系統（FIB系統）等