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材料 | 氧化性/℃> | 還原性/℃< | 其他限制/℃ |
鉑銠合金 | 1600 | 760 | 惰性氣體中用到1600 |
鉬 | 320 | 2200 | 真空或惰性氣體中用到2200 |
二硅化物涂層的鉬 二硅化物涂層的鉬 | 1650 | 1650 | |
鉭 | 320 | 1150 | 真空或惰性氣體中用到2760 |
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