Optima 8000電感耦合等離子體發射光譜儀技術規格

Optima 8000電感耦合等離子體發射光譜儀技術規格

1．設備用途及總體要求：

用于對各類樣品中主量、微量及痕量元素的定性、半定量和定量分析。儀器以固體檢測器為基礎，由進樣系統、高頻發生器、等離子體炬、光路系統、檢測器、分析軟件和計算機系統組成，全自動控制，儀器監控儀表全部由計算機控制，任何儀器參數都不需要手動調節的全譜直讀型臺式等離子體發射光譜儀。

2．設備總體性能：

2.1動態范圍 ：³ 10⁶，具有同時準確分析出中量（1%以上）、常量（0.01%）和微量（1ppm以下）元素的實際樣品用戶應用實例。具有同時準確分析主量（50%以上）和常量（0.01%）元素的實際樣品用戶應用實例。

2.2分析速度 ： ³ 15 個元素/分鐘，且實施背景校正。

2.3精密度 ：1ppm 混合多元素溶液。CV<0.5%。

2.4 穩定性 ：1小時RSD<1%， 4小時RSD<2%。

2.5分辨率 ：在200nm處，像素分辨率 ：£0.003nm。

2.6 檢出限，以1ppm混標測量建立儀器的靈敏度，以6次空白溶液測量的3s強度所對應的濃度計算檢出限，所有下列檢出限必須在同一個儀器參數下同時做出。

2.7靈敏度

旋流霧室和同心霧化器（單位：cps/ppm）

Mn 257.610nm > 8.5×10⁶，Al 396.153nm > 1×10⁶，Ni 231.604nm > 3×10⁵

As 193.696nm > 1.5×10⁴，Pb 220.353nm > 5×10⁴，P 213.617nm > 3×10⁴

2.8 具有高純氣體中痕量雜質分析的能力和用戶應用實例。可以分析高純氮氣、氫氣、氦氣中0.1微克/升以下含量的雜質。

2.9 具有99.99%高純材料（例如高純石英砂）中痕量雜質分析的能力和用戶應用實例。

2.10 具有鍍鋁鋅板、鋯鐵合金、鈦合金、鋁鐵錳青銅、鑄造鋁合金、耐磨鑄鐵、變形鋁合金、鉛黃銅、黃金合金、催化劑、電鍍液等冶金材料中痕量雜質分析的能力和用戶應用實例。

2.11 具有土壤、沉積物、植物、沉積巖、硅灰石、水、動物組織、紡織品、松香、植物油、化妝品、食品、中藥、西藥等樣品類型中痕量雜質分析的能力和用戶應用實例。

3．進樣系統

3.1 霧化器：標配耐HF酸耐高鹽分的霧化器，耐： 50% (v/v) HCl、HNO₃、H₂SO₄、H₃PO₄，20% (v/v) HF，30% (w/v)NaOH以及30%的高鹽樣品。

3.2 霧化器噴嘴為紅寶石和藍寶石材料制成。

3.3 霧室：標配耐HF酸耐高鹽分樣品。

3.4 霧室為不親水的高強度高純氟塑料材料制成。

3.5 分析含HF、HCl、HNO₃酸等各種樣品，霧化器和霧室的使用壽命不少于5年，并有超過5年的用戶使用實例。

3.6炬管為可拆卸式結構，炬管中心管標配為剛玉材料，其使用壽命不少于5年，并有超過5年的用戶使用實例。

3.7炬管和霧化器、霧室為一體式設計，從霧室到炬管無需任何管線連接，以減小樣品分析時的記憶效應，且炬管和霧化器、霧室可以同時安裝同時拆卸，安裝和拆卸無需任何工具，安裝和拆卸時間不超過1分鐘。

3.8等離子體和進樣系統分別在兩個室內，以減小等離子體的高溫對霧化器、霧室的影響。

3.9 蠕動泵為內置三通道水平式全自動設計，蠕動泵進樣量從0.1毫升/分鐘到5.0毫升/分鐘連續可調，并且具有沖洗功能，在分析完高鹽分樣品后智能快速沖洗以提高分析速度。

3.10 進樣系統具有溫度控制系統，當環境溫度變化較大時，溫度控制系統可以較小環境溫度變化的對霧化器霧化效率的影響，以提高儀器的穩定性。

4．射頻發生器和等離子體

4.1 類型：自激式射頻發生器，無需大功率管。

4.2 頻率：40.68MHz。

4.3 功率：750W～1500W，1W增量連續可調。

4.4 功率穩定性優于0.1%。

4.5 射頻發生器的功率傳輸效率優于81%。

4.6 射頻輻射防護滿足FCC管理規范Part 18的要求，同時符合EC和VDE 0871的B級射頻輻射防護要求。在等離子體點燃的情況下，操作者依然可以安全地調節炬管的位置。

4.7 等離子體為水平式，觀測方式有水平和垂直兩種，在一次分析中可以采用水平和垂直兩種觀測方式，由軟件控制全自動切換，并同時給出兩種觀測方式的測量結果。

4.8 等離子體的點燃為全自動控制，除ICP-OES的主機電源外，諸如載氣流量等所有操作參數都無需手動調節。操作者可以設定儀器自動開機的時間，以及分析完

樣品后自動關機的時間，自動關機和開機的整個過程都無需操作者參與。

4.9 儀器具有全面的安全連鎖保護，隨時監測循環水機的水流、各種氣體的壓力等參數，即使操作者出現誤操作，也不會對儀器造成損壞和人員的傷亡。

4.10 由于射頻發生器的很多參數無法進行驗收測試，所有上述數據以儀器制造商英文原版印刷材料為準。

4.11 免維護的平板等離子體設計，通過兩塊鋁板形成等離子體，鋁板無需循環冷卻水進行冷卻，長壽命，終身免維護。

4.12 等離子體正常運行的氬氣消耗總量小于10升/分鐘。

4.13 等離子體具有實時全彩色攝像系統，操作者在儀器的控制軟件中可以實時全彩色看到等離子體的運行圖形，并觀察炬管、炬管中心管是否變臟需要清洗。

5．光學系統和檢測器

5.1光學穩定性：光學系統密閉并可以進行吹掃，與進樣系統設計在一個平臺上，整個光學系統具有防震措施，一般的地面震動不影響其分析性能。

5.2系統類型：高性能二維(交叉)色散中階梯光柵(棱鏡)，波長范圍：160-900nm，具有3萬條以上的譜線庫，每條譜線至少可以選擇30個象素點進行測量。對于常見元素Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn，軟件的默認推薦譜線不少于5條。

5.3光路設計簡單、可靠，中階梯光柵的閃耀角在60度以上，中階梯光柵刻線密度在60條/mm以上。

5.4 焦距200 mm－650mm。

5.5 檢測器必須是專門設計用于ICP-OES分析的固態檢測器，且無紫外線轉換熒光涂層，無老化問題。

5.6低紫外 (<190nm) 譜線可以采用氮或氬氣吹掃，吹掃的氣體流量由軟件控制，并具有正常吹掃和高流量吹掃兩種模式可選。

5.7內建氖燈自動進行波長校正，每一條譜線在使用前都不需要用標準溶液進行譜線定位。儀器在*關機的情況下開機，兩分鐘之內即可進行分析測試投入運行，無需長時間的預熱。

5.8 在光學設計上強光和弱光測量不能采用同樣的積分時間，以避免檢測器的損壞，表現在儀器的軟件上為積分時間自動確定，隨樣品中元素含量的不同而自動變化，無需人工設置積分時間。

6．分析軟件：

6.1軟件操作方便、直觀，具有定性、半定量、定量分析功能，軟件為全中文多任務操作，即在分析樣品的同時，能同時進行數據處理，并處理和打印全中文報告。控制軟件可以在中文版Windows XP下運行，可以脫離儀器安裝在其它計算機上進行模擬運行（模擬等離子體點火、熄火、樣品分析），同時模擬軟件具有數據處理功能，以便于教學、演示和培訓。

6.2具有元素間干擾校正技術、譜線擬合干擾校正技術和實時背景扣除功能等不少于3種干擾校正技術。

6.3每一條譜線的積分時間都可以自動優化，無需使用者進行估計，軟件會根據樣品中元素的含量自動進行選擇。

6.4軟件設計全面符合電子簽名管理的21 CFR Part 11管理法規；

6.5全自動安全保護功能，儀器通訊和控制采用GPIB控制卡，軸向、側向觀測位置由軟件控制自動優化。具有控制蠕動泵進行智能清洗的功能。

6.6全面控制流動注射分析系統（FIMS），其分析汞的檢出限優于0.01ppb。

6.7具有氫化物發生ICP-OES分析功能。

6.8支持液相色譜（HPLC）與ICP-OES聯用進行形態分析。

6.9具有顯示二維中階梯光譜圖的功能，并顯示分析譜線在光譜圖中的位置，所顯示的二維光譜圖必須與中階梯分光所產生的二維圖形*匹配。具有半定量分析功

能，即無需分析標準溶液，即可直接獲得樣品中超過50個元素的濃度半定量結果。

6.10具有在主軟件運行時同時運行離線數據處理（Offline）的功能。數據檔案管理功能，支持數據的備份、恢復、刪除，支持數據的文本格式輸出。具有與LabWorks LIMS無縫連接的功能，并具有與國產LIMS連接的接口。