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    技術文章

    光學膜層厚度測量控制儀CDNY-03AM

    閱讀:108發布時間:2017-12-6

    光學膜層厚度測量控制儀CDNY-03AM

     

                                                 

    CDNY-03AM是專為光學鍍膜設計的新一代光學膜層厚度測量控制儀。本儀器由于采用窄帶頻率技術,因而對信號諧波和直流漂移具有*的抑制能力。

    主要性能指標及技術指標

    主信號通道:
    信號輸入方式:單端交流輸入
    輸入量程:0.5mV-500mV
    信號頻率范圍:1KHz±5%
    本機頻相噪聲:≤4nV/Hz(折合到輸入端)
    性誤差: ≤0.1%
    零點時源: ≤0.2%/h
    參考信號通道:

    信號輸入方式:單端交流輸入
    輸入幅度:20-700mV
    頻率范圍:≥320。


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