開啟式管式爐PECVD系統由高溫管式爐,真空壓強控制系統,多通道高精度數字質量流量控制系統,過壓保護及冷凝等部分組成,可實現真空達0.1mbar混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。
功能特點：
在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，并發生化學反應生成介質膜，副產物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)
產品用途：
PECVD開啟式管式爐系統由開啟式管式爐、高真空分子泵系統、射頻電源系統及多通道高精度數字質量流量控制系統組成，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇。
適用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用
產品參數
- 控溫方式：采用人工智能調節技術，具有PID調節、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。
- 加熱元件：0Cr27Al7Mo2
- 工作電源：AC220V 50Hz/60Hz
- 額定功率：4kw
- 爐管材質：高純石英管
- 爐管尺寸：Φ60/Φ80*1200mm
- 工作溫度：≤1150℃(可定制)
- 溫度：1200℃(可定制)
- 恒溫精度：±1℃
- 恒溫區：200mm(可定制)
- 升溫速度：≤10℃/min
- 密封方式：不銹鋼快速法蘭擠壓密封
- 極限真空：6.0×10-5Pa
- 工作真空：7.6×10-4Pa
- 產品配置：雙級旋片真空泵+分子泵
- 測量方式：復合真空計
- 真空規管：電阻規+電離規
- 冷卻方式：風冷
- 抽速：110L/S
- 射頻電源系統
- 射頻功率輸出范圍：5~500W
- 射頻頻率：13.56MHz±0.005%
- 噪聲：≤55DB
- 冷卻方式：風冷
- 功率溫定度：± 0.1%
- 混氣系統流量規格：0－200sccm （可根據客戶需要配置）
- 線性：±1.5%F.S
- 準確度：±1.5%F.S
- 重復精度：±0.2%F.S.
- 響應時間：≤8sec
- 耐壓：3MPa
- 氣路通道：4通道（根據客戶需求）
- 針閥：316不銹鋼
- 管道：Φ6mm不銹鋼管
- 接口：SwagelokΦ6mm
