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原子層沉積 (ALD) 閥

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更新時間：2023-09-10 10:18:25瀏覽次數：240次

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江蘇卡特斯流體控制設備有限公司

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產品簡介

世偉洛克是半導體芯片制造應用的技術和解決方案提供商，同時也是ALD閥門技術的*

詳細介紹

世偉洛克是半導體芯片制造應用的技術和解決方案提供商，同時也是 ALD 閥門技術的*。我們的 ALD 超高純 (UHP) 閥具有以下特點：

●高速啟動下的超高循環(huán)壽命

●Cv 范圍從 0.27 至 1.7

●使用熱動元件時，全浸沒溫度高達 392°F (200°C)

●適合于采用標準 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體的 UHP 應用

●模塊化表面安裝、卡套管對焊和 VCR® 端接

●電子或光學執(zhí)行機構位置傳感選購件

ALD3 和 ALD6 UHP 隔膜閥

ALD 隔膜閥具有超長的使用壽命、高速的啟動和高達 0.62 的流量系數，與熱執(zhí)行機構、位置傳感器和電磁閥配合使用，可在原子層沉積應用場合實現性能。

規(guī)格

工作壓力	真空至 145 psig (10.0 bar)
爆裂壓力	3200 psig (220 bar)
執(zhí)行壓力	50 至 90 psig（3.5 至 6.2 bar）
溫度	32° 至 392°F（0° 至 200°C）
流量系數(Cv)	0.27 或 0.62
閥體材料	316L VIM-VAR 不銹鋼
隔膜材料	鈷基高溫合金
端接
類型（尺寸）	內螺紋 VCR® 面密封接頭（1/4 in. 至 1/2 in.）外螺紋 VCR 面密封接頭（1/4 in. 至 1/2 in.）模塊化表面安裝高流量 C 型密封（1.125 in. 至 1.5 in.）

適用于高流量應用的 ALD20 UHP 閥門

ALD20 UHP 閥門是世偉洛克 ALD 產品系列的成員。正在申請的設計允許利用具有挑戰(zhàn)性的低蒸汽壓前體。ALD20 采用超高純波紋管，因此與其他 ALD 閥相比，可促進清潔操作并具有更高的流量。

此外，ALD20 閥可以熱浸在氣箱中，并可以從 50°F (10°C) 加熱到 392°F (200°C)。

規(guī)格

工作壓力	真空至 20 psig (1.4 bar)
爆裂壓力	>3200 psig (220 bar)
執(zhí)行壓力	70 至 90 psig（4.8 至 6.2 bar）
溫度	50° 至 392°F（10° 至 200°C）
流量系數 (Cv)	1.2 (MSM) 或 1.7（直通型）
閥體材料	316L VIM-VAR 或合金 22
波紋管材料	合金 22（5 μin.Ra 表面粗糙度）
端接
類型（尺寸）	內螺紋 VCR® 接頭 (1/2 in.) 可旋轉外螺紋 VCR 接頭 (1/2 in.) 卡套管對焊，長 0.50 in. (1/2 in. x 0.049 in.) 模塊化表面安裝高流量 C 型密封 (1.5 in.)