【儀表網 企業財報】7月7日，蘇大維格發布2021年半年度業績預告，預計業績同向上升。報告期內歸屬于上市公司股東的凈利潤4,600.00萬元—5,800.00萬元，比上年同期增長237.18%—325.14%；上年同期盈利1,364.26萬元。
關于業績變動原因：1、2021年上半年，我國經濟持續恢復。公司微納新材料制造項目、高性能柔性觸控屏及模組和研發中心項目、微納光學導光板產業化項目產能逐步爬升，帶動公司公共安全和新型印材業務、消費電子新材料業務實現較快增長。同時，隨著國內基建項目和車牌膜市場的恢復，公司反光材料業務收入基本恢復至疫情前水平。報告期內，公司合并營業收入較上年同期增長約40%。
2、報告期內，新冠疫情對凈利潤的不利影響較上年同期得到明顯改善，產業化項目的產能釋放使公司利潤水平逐步恢復；同時，公司加強應收賬款管理，收回以前期間部分賬款，轉回前期計提的部分信用減值損失。
以上原因共同推動公司歸屬于上市公司股東的凈利潤同比大幅增長。
報告期內，非經常性損益對凈利潤的影響金額預計為1,000萬元-1,300萬元。
資料顯示，蘇大維格是國內微納結構產品制造和技術服務商，通過自主研發微納光學關鍵制造設備——光刻機，建立了微納光學研發與生產制造的基礎技術平臺體系，為客戶提供不同用途微納光學產品的設計、開發與制造服務。
日前，蘇大維格與高偉電子控股有限公司就圍繞光學領域的創新技術和產業發展需求，在TOF、AR、MiniLED、光子芯片等多個領域，通過組建團隊、合資公司、建立新型研發機構、整合客戶資源等方式開展合作達成共識。
此次合作，有助于進一步拓展公司高端微納技術在光學領域的應用，加深公司在新一代顯示技術領域的研發與布局，以及推動公司納米波導光場鏡片、裸眼3D顯示等先進儲備技術的進一步研發及產業化工作具有積極影響。
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