光學干涉式薄膜測厚儀具有非接觸、多材料、安全性高等優點，在薄膜厚度測量領域中具有廣泛的應用。目前，制約著光學干涉式薄膜測厚儀測量性能的主要因素是測量系統自身存在的各種誤差，如系統參數誤差、系統模型誤差、溫度漂移誤差、數據處理誤差等。
因此，為了保證測量結果的準確性，在利用光學干涉式薄膜測厚儀對薄膜厚度進行測量前，應對測量儀器進行校準。校準工作作為光學干涉式薄膜測厚儀研制中的核心技術之一，是薄膜厚度測量量值傳遞的重要環節?，F階段，國內從事光學干涉式薄膜測厚儀生產的單位較多，各家產品型號各異，由于沒有合適的校準規范作為參考依據，之前對光學干涉式薄膜測厚儀的校準工作大多參照生產廠家對自家產品特性要求或是儀器使用說明書進行。
為了規范光學干涉式薄膜測厚儀的校準工作，使其校準有章可循，亟需編制《光學干涉式薄膜測厚儀校準規范》。
本規范依據JJF1071-2010《國家計量校準規范編寫規則》、JJF1001-2010《通用計量術語及定義》和JJF1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》規定的規則編寫。
本規范參考了GB/T 14847-2010《重摻雜襯底上輕摻雜硅外延層厚度的紅外反射測量方法》、JJF 1306-2011《X射線熒光鍍層測厚儀校準規范》的相關內容。
本規范引用的文件有GB/T 14847-2010 重摻雜襯底上輕摻雜硅外延層厚度的紅外反射測量方法；JJF 1306-2011 X射線熒光鍍層測厚儀校準規范。
依據JJF1071-2010《國家計量校準規范編寫規則》，本規范在架構上包括引言、范圍、引用文件、概述、計量特性、校準條件、校準項目和校準方法、校準結果的表達、復校時間間隔和附錄等內容。
本規范為發布。本校準規范適用于測量范圍為(10-300)μm、分辨力為0.01μm光學干涉式薄膜測厚儀的校準。(詳情請見附件)
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