【儀表網 儀表上游】中共中央、國家主席、中央軍委主席于6月3日參觀國家“十二五”科技創新成就展。
展覽以“創新驅動發展、科技未來”為主題于2016年6月1-7日在北京展覽館舉辦，向公眾展示國家各領域科技創新改革取得的新進展和新成果。展覽內容共分“總況、重大專項、基礎研究、戰略高技術、農業科技、民生科技、區域創新、大眾創業萬眾創新、創新人才、融入創新網絡”等十個展區，《極大規模集成電路制造裝備及成套工藝》（集成電路專項）成果位于主館一號展位，成績斐然，引人關注。
集成電路是信息化時代基礎重要的產品，是支撐我國經濟社會發展和保障國家安全的戰略性、基礎性和先導性產業。2008年后，隨著集成電路專項等重大專項的啟動，我國開始圍繞集成電路產業鏈加快部署創新鏈，并逐漸形成了產業鏈、創新鏈與金融鏈“三鏈融合”的發展局面。
集成電路專項重點布局在北京、上海、江蘇、沈陽、武漢、深圳等6個產業集聚區，對我國集成電路制造、裝備、材料及封裝產業鏈的形成和競爭力的提高發揮了決定性作用，我國集成電路技術步入自主發展的快車道，為下階段大規模產業投入做了堅實的技術準備。
專項實施前，我國集成電路制造裝備與材料基本空白，工藝技術依賴引進。在集成電路專項支持下，刻蝕機、PVD、封裝光刻機等16種前道和15種后道裝備產品以及拋光劑、濺射靶材等上百種關鍵材料通過大生產線考核進入海內外市場；集成電路成套工藝提升4代，55/40/28納米三代工藝實現量產，22納米先導平臺建成；系統封裝集成技術實現與同步發展；14納米先導工藝、裝備、材料及封測技術取得突破。專項已申請2.3萬余項發明，專項成果已實現銷售1583億元，在企業總銷售中占比達56%。
本次展覽中，一批代表性企業和科研單位分別展示了基于專項研發成果形成的產品，包括：北京北方微電子公司的物理氣相沉積設備（PVD）、天津華海清科公司的化學機械拋光設備（CMP）、沈陽新松公司的物料搬運天車系統等集成電路裝備；中芯、華力微電子、武漢新芯、華虹宏力、華潤微電子、士蘭微電子、上海先進、中科君芯、中車時代等企業的12英寸先進工藝及8英寸特色工藝產品；長電科技、通富微電、華天科技、蘇州晶方、華進半導體、深南電路等集成電路封測企業的先進封裝工藝產品；江豐電子的靶材、安集微電子的CMP拋光液、北京科華的光刻膠、南大光電的離子源、煙臺德邦的封裝材料等集成電路材料；七星華創公司的氣體質量流量計、沈陽富創公司的刻蝕機工藝腔室、清華大學的微動臺、華卓精科公司的激光干涉儀、沈陽科儀公司的干式真空泵機組等零部件。
集成電路專項的階段性成果和帶動了我國集成電路制造產業創新能力的顯著提升，未來必將為“創新驅動發展”國家戰略的實現做出更大貢獻。
（原標題：主席參觀國家“十二五”科技創新成就展集成電路展館）
