【儀表網 儀表研發】近日，中科院微電子研究所科研團隊聯合江蘇艾特曼電子科技有限公司，借助中科院微電子所8英寸CMOS工藝平臺，完成了“高精度三軸加速度計”產品工藝的開發與驗證，經使用測試，器件性能表現良好，符合設計預期，可為MEMS設計單位提供產品服務。
目前，中科院微電子所科研人員針對產業界對MEMS代工的需求，以高精度三軸加速度計開發為牽引展開攻關，致力于在現有8英寸硅工藝線上，實現與CMOS工藝兼容的通用MEMS加工平臺技術，成功開發出大深寬比MEMS結構刻蝕、MEMS與ASIC晶圓堆疊、TSV電學連接及晶圓級蓋帽鍵合封裝等關鍵工藝技術的量產，終實現了TSV的ASIC晶圓、MEMS結構晶圓及蓋帽晶圓的三層鍵合工藝，順利交付三軸加速度計產品。
目前，中科院微電子所在現有8英寸硅工藝線基礎上，已經形成了適用于多種MEMS傳感器件（例如高精度兩軸、三軸加速度計，高度計，壓力、紅外熱敏等器件）加工的Post CMOS-MEMS標準工藝，并實現了該工藝技術平臺化的開發，可為MEMS設計單位提供產品工藝研發與批量加工服務。
（原標題：中科院研發高精度三軸加速度計取得一定技術進展）
