【儀表網 行業標準】根據國家市場監督管理總局下達的國家計量技術規范制修訂計劃，全國幾何量長度計量技術委員會已完成《晶圓級薄膜厚度標準片校準規范》《晶圓級臺階高度凹槽深度標準片校準規范》《干涉式三維表面形貌測量儀校準規范》《光學陀螺測角儀校準規范》和《散目標式視覺測量系統校準規范》5項計量技術規范的征求意見稿。為了使國家計量技術規范能廣泛適用和更具可操作性，特向全國有關單位及專家公開征求意見和建議。
《晶圓級薄膜厚度標準片校準規范》
晶圓級薄膜厚度標準片指以硅晶圓片為基底，采用化學氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)以及原子層沉積(ALD)等方法生長出微納米量級的單層二氧化硅薄膜，主要被測參數為薄膜厚度，晶圓級薄膜厚度標準片是集成電路產線質控的必要器件。
JJF 1001-2011《通用計量術語及定義》、JJF 1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》、JJF1071-2010《國家計量校準規范編寫規則》、JJF 1094-2002《測量儀器特性評定》共同構成支撐本校準規范制定工作的基礎性系列文件。
根據JJF1071-2010《國家計量校準規范編寫規則》，本規范內容包括：引言；范圍；引用文件；概述；計量特性；校準條件；校準項目和校準方法；校準結果表達；復校時間間隔以及附錄幾個部分。
本規范為首次制定。本規范適用于晶圓級薄膜厚度標準片的校準，薄膜材料為硅上二氧化硅，校準方法為激光橢偏儀，同時其他材料的晶圓級薄膜厚度標準片的校準也可以參照本規范。
《晶圓級臺階高度/凹槽深度標準片校準規范》
晶圓級臺階高度/凹槽深度標準片是用來校準微電子集成電路領域微納表面形貌測量儀的標準器。其基底為硅晶片，通過對其表面氧化膜刻蝕得到臺階結構，可適應于接觸或非接觸式的各類表面形貌顯微測量裝置。特征結構位于標準片的中心，可通過輔助圖形幫助快速定位。
本規范依據JJF 1001-2011《通用計量術語及定義》、JJF 1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》、JJF1071-2010《國家計量校準規范編寫規則》、JJF 1094-2002《測量儀器特性評定》編制。制定本規范的目的主要是解決我國微電子集成電路領域納米尺度晶圓標準片上臺階高度/凹槽深度校準問題。
根據JJF1071-2010《國家計量校準規范編寫規則》，本規范內容包括：引言；范圍；引用文件；概述；計量特性；校準條件；校準項目和校準方法；校準結果表達；復校時間間隔以及附錄幾個部分。
本規范為首次制定。本規范適用晶圓級標準片的校準。包括晶圓級臺階高度標準片、晶圓級凹槽深度標準片的首次校準、后續校準和使用中檢查。
《干涉式三維表面形貌測量儀校準規范》
干涉式三維表面形貌測量儀基于雙光束干涉的原理，經樣品表面反射回的參考光與測量光形成干涉條紋，并經由CCD采集，經過算法重構獲得表面形貌，在垂直方向上可以達到亞納米級的分辨力。
JJF1001-2011《通用計量術語及定義》、JJF1071-2010 《國家計量校準規范編寫規則》、JJF 1094-2002《測量儀器特性評定》和JJF 1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》共同構成支撐本校準規范制定工作的基礎性系列文件。
根據JJF1071-2010《國家計量校準規范編寫規則》，本規范內容包括：引言；范圍；引用文件；概述；計量特性；校準條件；校準項目和校準方法；校準結果表達；復校時間間隔以及附錄幾個部分。
本規范為首次制定。本規范適用于干涉式三維表面形貌測量儀的校準，其它基于干涉原理的顯微鏡校準也可參照本規范。
《光學陀螺測角儀校準規范》
光學陀螺測角儀是基于薩格納克效應(Sagnac Effect)發展出來的一種角度測量儀器，陀螺本體，光路內藏于殼內，卡盤下表面與陀螺敏感面平行，通過卡盤安裝在載體工作面上；數據采集模塊，通過無線或有線通訊與陀螺本體互聯，可在外部觸發或內部觸發下實時采集角度測量結果，測量結果可傳輸至上位機顯示或分析。
JJFXXX-XXX《光學陀螺測角儀校準規范》是針對光學陀螺測角儀校準的計量技術法規。光學陀螺測角儀是基于薩格納克效應(Sagnac Effect)發展出來角度測量儀器。其測量結果是在慣性空間內的陀螺敏感面上，陀螺載體相對啟動時刻空間指向的角度變化量。基于此測量原理，光學陀螺測角儀具有獨特的誤差作用機理，并相應地表現出特有的計量性能，因此有必要為其制定專門的校準規范，保證該類計量儀器使用規范、量值傳遞有效、測量結果可靠。同時需要聲明的是：本規范制定內容只涉及光學陀螺測角儀在特定溫度范圍內角位置測量結果的校準方法，未涉及光學陀螺測角儀在不同溫度條件下的校準方法，也不涉及光學陀螺測角儀角速度測量結果的校準方法。
本規范依據JJF 1071-2010《國家計量校準規范編寫規則》、JJF 1001-2011《通用計量術語及定義》和JJF 1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》進行編寫。
根據JJF1071-2010《國家計量校準規范編寫規則》，本規范內容包括：引言；范圍；引用文件；術語；概述；計量特性；校準條件；校準項目和校準方法；校準結果表達；復校時間間隔以及附錄幾個部分。
本校準規范為首次發布。本規范適用于環形激光陀螺測角儀和光纖陀螺測角儀的角位置相關計量性能的校準。
《散目標式視覺測量儀校準規范》
散目標式視覺測量儀是以散斑為目標點，利用數字相機獲取散斑的數字圖像，經數字圖像相關法運算，獲得被測對象表面坐標的測量儀器，常用于零件表面變形/應變的測量，也稱為全場變形/應變測量系統，具有非接觸測量、全場測量、動態測量等特性。
本規范依據JJF1001《通用計量術語及定義》、JJF1071《國家計量校準規范編寫規則》編制，測量不確定度的評定按照JJF1059.1《測量不確定度評定與表示》進行。
根據JJF1071-2010《國家計量校準規范編寫規則》，本規范內容包括：引言；范圍；引用文件；術語和定義；概述；計量特性；校準條件；校準項目和校準方法；校準結果表達；復校時間間隔以及附錄幾個部分。
本規范為首次發布。本規范適用于以散斑點為特征點、以數字圖像相關法為基本原理的視覺測量儀的校準。
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