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    氧化鉿基鐵電存儲(chǔ)材料研究取得進(jìn)展

    研發(fā)快訊 2023年08月22日 14:37:38來(lái)源:微電子研究所 11703
    摘要中國(guó)科學(xué)院微電子研究所微電子器件與集成技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室劉明院士團(tuán)隊(duì)與物理研究所研究員杜世萱團(tuán)隊(duì)合作,發(fā)現(xiàn)了穩(wěn)定的鐵電三方相Hf(Zr)1 xO2材料結(jié)構(gòu)。

      【儀表網(wǎng) 研發(fā)快訊】互聯(lián)網(wǎng)、人工智能等信息技術(shù)的快速發(fā)展,對(duì)存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)密度、訪問(wèn)速度以及操作次數(shù)都提出了更高的要求。氧化鉿基鐵電存儲(chǔ)器具有低功耗、高速、高可靠性等優(yōu)勢(shì),被認(rèn)為是下一代非易失性存儲(chǔ)器技術(shù)的潛在解決方案。現(xiàn)在普遍研究的正交相(orthorhombic phase,簡(jiǎn)稱“o相”)HfO2基鐵電材料由于自身高鐵電翻轉(zhuǎn)勢(shì)壘和“獨(dú)立翻轉(zhuǎn)”的偶極子翻轉(zhuǎn)模式,使基于該鐵電材料的器件具有高矯頑場(chǎng),導(dǎo)致器件工作電壓與先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)不兼容、擦寫次數(shù)受限等問(wèn)題。這一問(wèn)題是基于o相HfO2基鐵電材料的本征特性,難以通過(guò)傳統(tǒng)的優(yōu)化工藝加以解決。因此,探尋結(jié)構(gòu)穩(wěn)定且具有低翻轉(zhuǎn)勢(shì)壘的HfO2基鐵電材料是亟待解決的難題。 (買儀表,賣儀表就上儀表網(wǎng)! 查產(chǎn)品、看訂單…一站式全搞定!)
     
      中國(guó)科學(xué)院微電子研究所微電子器件與集成技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室劉明院士團(tuán)隊(duì)與物理研究所研究員杜世萱團(tuán)隊(duì)合作,發(fā)現(xiàn)了穩(wěn)定的鐵電三方相Hf(Zr)1+xO2材料結(jié)構(gòu)。這種結(jié)構(gòu)降低了HfO2基鐵電材料中鐵電偶極子的翻轉(zhuǎn)勢(shì)壘。研究通過(guò)基于密度泛函理論(DFT)的第一性原理計(jì)算發(fā)現(xiàn),當(dāng)Hf(Zr)1+xO2材料中,Hf(Zr)與氧的比例大于1.079:2時(shí),三方相的形成能低于鐵電o相和單斜相(m相)的形成能。掃描透射電子顯微鏡(STEM)實(shí)驗(yàn)清晰顯現(xiàn)了過(guò)量Hf(Zr)原子嵌入在鐵電三方相晶格的晶體結(jié)構(gòu),證實(shí)了理論計(jì)算的結(jié)果。嵌入的Hf(Zr)原子擴(kuò)展了晶格,增加了其面內(nèi)和面外應(yīng)力,起到了穩(wěn)定Hf(Zr)1+xO2材料結(jié)構(gòu)和降低其鐵電翻轉(zhuǎn)勢(shì)壘的作用。基于Hf(Zr)1+xO2薄膜的鐵電器件展示了超低矯頑場(chǎng)(~0.65MV/cm)、高剩余極化(Pr)值(22μC/cm2的)、小的飽和極化電場(chǎng)(1.25MV/cm)、和大的擊穿電場(chǎng)(4.16MV/cm),并在飽和極化下實(shí)現(xiàn)了1012次循環(huán)的耐久性。這一研究結(jié)果為低功耗、低成本、長(zhǎng)壽命的存儲(chǔ)器芯片提供了一種有效的解決方案。
     
      研究工作得到科學(xué)技術(shù)部、國(guó)家自然科學(xué)基金、北京市自然科學(xué)基金、中國(guó)科學(xué)院的支持。近期,相關(guān)研究成果發(fā)表在《科學(xué)家》(Science)上。中國(guó)科學(xué)院大學(xué)的科研人員參與研究。
     
    圖1. 平面鐵電電容器的基本特性及Hf(Zr)1+xO2薄膜的結(jié)構(gòu)表征
     
      圖2. 富含Hf(Zr)原子的菱面體Hf(Zr)1+xO2薄膜的原子尺度STEM分析
     
    圖3. 基于密度泛函理論(DFT)的第一性原理計(jì)算
     
    圖4. 基于Hf(Zr)1+xO2薄膜的鐵電電容器的性能

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