納米銀分散機在液體當中，納米銀電鍍漿料研磨分散機，納米銀電鍍漿料乳化機，納米銀電鍍漿料高剪切乳化機，納米銀抗菌材料高速分散機，納米銀分散機，納米銀漿料生產設備是指將不溶固體顆粒分散到液體中在液體介質中的分散體系。在分散過程中，往往需要減小固體顆粒，這就是濕磨或高剪切分散。用IKN高剪切分散機輸入大量能量，可實現我們的目的。
銀離子和含銀化合物可以在殺死或者抑制細菌，病毒，藻類和真菌。因為它有對抗疾病的效果，所以又被稱為親生物金屬
納米銀，是利用前沿的納米技術獎銀納米化，納米技術出現，使銀在納米狀態下的殺菌能力產生了質的飛躍，極少的納米銀可產生強大的殺菌作用，可在數分鐘內殺死650多種細菌
納米銀是粉末狀銀單質，粒徑大概小于100um,一般在25-50nm之間，納米銀的性能與其粒徑有直接的關系，研究發現，粒徑越小，價胎越高，殺菌性能越強，
現在納米銀市面上遇到的難題是納米銀怎么與產品結合起來，也就是納米銀怎么分散在需要的介質當中，
納米銀分散機在液體當中
現在怎么把納米銀固體顆粒分散在液體介質當中，是大家面臨的難題，，會形成抱團，粒徑會增大，目前國內的分散機，乳化機只有3000轉，不能很好的把納米銀分散開，影響納米銀的功效
納米銀抗菌新型涂料已經列為國家“十三五”重點項目，所以市場前景和應用前景都具有巨大優勢
ikn根據市場需求研發了研磨分散機是由研磨機 和分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出***終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
IKN研磨設備采用德國*的高速研磨分散技術，通過超高
轉速（***高可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉子（通常配CM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使納米銀漿料在設備的高線速度下形成湍流，在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的納米銀漿料
納米銀抗菌新型涂料研磨分散設備
納米銀(Nano Silver)就是將粒徑做到納米級的金屬銀單質。納米銀粒徑大多在25納米左右，對大腸桿菌、淋球菌、沙眼衣原體等數十種致病微生物都有強烈的抑制和殺滅作用，而且不會產生耐藥性。
納米銀抗菌新型涂料已經列為國家“十三五”重點項目，所以市場前景和應用前景都具有巨大優勢
ikn納米銀抗菌材料分散機，
高速分散機的高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是***重要的。根據一些行業特殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎上又開發出ERS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。
影響分散乳化結果的因素有以下幾點
1 乳化頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次好）
2 乳化頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 乳化頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
5 循環次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
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