準直望遠鏡儀 型號：ZWJ-851
1.用途:
是用于測量汽車及道路車輛用安全玻璃的副像偏離和光學偏移的主要儀器，*符合GB9656-2003及GB/T5137.2-2002標準規定的儀器技術參數和測試條件，
準直望遠鏡儀 型號：ZWJ-851
1.用途:
ZWJ-851型準直望遠鏡儀是用于測量汽車及道路車輛用安全玻璃的副像偏離和光學偏移的主要儀器，*符合GB9656-2003及GB/T5137.2-2002標準規定的儀器技術參數和測試條件，是安全玻璃生產企業和研究單位進行驗收、質量控制及評定產品的儀器之一。
2.主要技術參數:
a.準直鏡
光源：12V 30W儀器燈泡; 物鏡焦距：f=200mm; 物鏡口徑：φ=30mm
b.望遠鏡 放大倍數：10倍；
物鏡焦距：f=200mm;
物鏡口徑：φ=30mm;
分辯率：4”
 | 產品名稱：汽車安全玻璃光畸變檢測儀 產品型號：GJB-1 |
汽車安全玻璃光畸變檢測儀型號：GJB-1
GJB-1型汽車安全玻璃光畸變檢測儀是依據國家標準GB9656和GB5137.2設計并制造的，用于檢測汽車玻璃光畸變的儀器。
該儀器由幻燈機（含可變焦鏡頭）、幻燈片和銀幕組成。
技術參數：
電 源：220V
燈泡功率：24V 150W
焦 距：70—120mm
相對孔徑：1：3.5
幻 燈 片：暗背景上的亮圓直徑8mm
銀幕材質：玻璃微珠
等離子體去膠機型號：ME1
ME1型等離子體去膠機，是在（RIE）反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來，為小型等離子去膠機，具有體積小，性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。
整機基本配置和性能：
1．激勵電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計各1臺（自動匹配可選），帶定時器1臺。
2．真空系統：8升/秒機械泵1臺。帶真空計。
3．載片臺尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統：2路進氣；2個質量流量計，2路顯示。
5．手動控制(可以選擇配置工藝過程自動控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內)
| 產品名稱： 等離子體去膠機 產品型號：ME1 |
等離子體去膠機型號：ME1
ME1型等離子體去膠機，是在（RIE）反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來，為小型等離子去膠機，具有體積小，性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。
整機基本配置和性能：
1．激勵電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計各1臺（自動匹配可選），帶定時器1臺。
2．真空系統：8升/秒機械泵1臺。帶真空計。
3．載片臺尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統：2路進氣；2個質量流量計，2路顯示。
5．手動控制(可以選擇配置工藝過程自動控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內)
ME1型等離子體去膠機，是在（RIE）反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來，為小型等離子去膠機，具有體積小，性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。
整機基本配置和性能：
1．激勵電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計各1臺（自動匹配可選），帶定時器1臺。
2．真空系統：8升/秒機械泵1臺。帶真空計。
3．載片臺尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統：2路進氣；2個質量流量計，2路顯示。
5．手動控制(可以選擇配置工藝過程自動控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內)
| 產品名稱： 等離子體去膠機 產品型號：ME1 |
等離子體去膠機型號：ME1
ME1型等離子體去膠機，是在（RIE）反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來，為小型等離子去膠機，具有體積小，性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。
整機基本配置和性能：
1．激勵電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計各1臺（自動匹配可選），帶定時器1臺。
2．真空系統：8升/秒機械泵1臺。帶真空計。
3．載片臺尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統：2路進氣；2個質量流量計，2路顯示。
5．手動控制(可以選擇配置工藝過程自動控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內)
ME1型等離子體去膠機，是在（RIE）反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來，為小型等離子去膠機，具有體積小，性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。
整機基本配置和性能：
1．激勵電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計各1臺（自動匹配可選），帶定時器1臺。
2．真空系統：8升/秒機械泵1臺。帶真空計。
3．載片臺尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統：2路進氣；2個質量流量計，2路顯示。
5．手動控制(可以選擇配置工藝過程自動控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內)
| 產品名稱： 等離子體去膠機 產品型號：ME1 |
等離子體去膠機型號：ME1
ME1型等離子體去膠機，是在（RIE）反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來，為小型等離子去膠機，具有體積小，性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。
整機基本配置和性能：
1．激勵電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計各1臺（自動匹配可選），帶定時器1臺。
2．真空系統：8升/秒機械泵1臺。帶真空計。
3．載片臺尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統：2路進氣；2個質量流量計，2路顯示。
5．手動控制(可以選擇配置工藝過程自動控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內)
ME1型等離子體去膠機，是在（RIE）反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來，為小型等離子去膠機，具有體積小，性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。
整機基本配置和性能：
1．激勵電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計各1臺（自動匹配可選），帶定時器1臺。
2．真空系統：8升/秒機械泵1臺。帶真空計。
3．載片臺尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統：2路進氣；2個質量流量計，2路顯示。
5．手動控制(可以選擇配置工藝過程自動控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內)
