JEBG系列大功率電子槍是在真空中蒸發或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發生源，能在不斷輸送中的寬幅塑料和大面積玻璃基板上高速率地連續鍍膜，此外在電子束熔煉時，可用于高熔點金屬錠的生產及提純。
電子束能大范圍地快速掃描，通過專用の控制裝置和軟件，能生成各種電子束照射圖形和區域。由于能夠在各個照射位置上設定掃描、停留時間、輸出功率及電子束形狀，因而能夠控制熔融面和膜厚分布。
用途
真空蒸鍍
阻隔膜、保護膜、電極膜、導電膜、磁性膜等薄膜的形成。
真空熔解
生產和提煉Ti、Ta、Nb、 Mo等高熔點金屬錠。
提煉太陽能電池多晶硅
| 型號 | EBG-300UA | JEBG-1000UB | JEBG-3000UB |
| 輸出功率 | 30kW (20kV, 1.5A) | 100kW (30kV, 3.4A) | 300kW (40kV, 7.5A) |
| 偏轉角 | ±30° | ||
| 掃描范圍 | X, Y 軸 | ||
| 掃描頻率 | 300Hz | 200Hz | 200Hz (300Hz: 選配) |
| 適用電源 | ST-30BE2 | JST-100C | JST-300CHR |
