JEBG系列大功率電子槍是用來在真空中蒸發或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發生源，能在寬幅塑料及大面積玻璃基板上持續、高速率地鍍膜，還可應用于電子束熔煉，用于高熔點金屬鑄錠的制備及精煉。
電子束能大范圍地快速掃描，通過專用的控制裝置和軟件，能生成各種電子束照射圖形和區域。由于能夠在各個照射位置上設定掃描、停留時間、輸出功率及電子束形狀，因而能夠控制熔融面和膜厚分布。
用途
真空蒸鍍
阻隔膜、保護膜、電極膜、導電膜、磁性膜等薄膜的形成。
真空熔解
Ti、Ta、Nb、 Mo等高熔點金屬鑄錠的制備及精煉。
提煉太陽能電池的多晶硅
| 型號 | EBG-300UA | JEBG-1000UB | JEBG-3000UB |
| 輸出功率 | 30kW (20kV, 1.5A) | 100kW (30kV, 3.4A) | 300kW (40kV, 7.5A) |
| 偏轉角 | Max. ±30° | ||
| 掃描范圍 | X, Y 軸 | ||
| 掃描頻率 | 300Hz | 200Hz | 200Hz (300Hz: 選配) |
| 適用電源 | ST-30BE2 | JST-100C | JST-300CHR |
