★ 冷卻的效果 樣品：鍍鋅鋼板
可提供500μm/h（8KV/2小時(shí)的平均值）的研磨速率。
Specimen: Galvanized iron steel
Normal milling (without cooling)
Accelerating voltage 4kV
Cooled milling (holder temperature -120℃)
Accelerating voltage 4kV
※ 通常加工（無冷卻）時(shí)，鐵和鋅的接合面上能夠觀察到間隙，而冷卻加工時(shí)則沒有間隙
★ 使用溫度控制系統(tǒng)（選配件）冷卻 樣品：硅晶片接合面
Normal milling Cooling Cooling temperature control
(without cooling) (holder temperature -150℃) (holder temperature -20℃)
Accelerating voltage 6kV Accelerating voltage 6kV Accelerating voltage 6kV
※ 常規(guī)加工由于熱損傷造成粘合劑變形，出現(xiàn)了很大的間隙。 -150 ℃時(shí)，冷卻過度，能觀察到膠粘劑和硅晶片研磨面的接合面上出現(xiàn)了間隙，但通過溫度控制冷卻則沒有間隙。
★ 合理利用間歇加工、冷卻功能和溫度控制冷卻功能可支持各種樣品的制備
★ 進(jìn)程監(jiān)控功能
截面加工狀態(tài)可通過CCD相機(jī)實(shí)時(shí)監(jiān)控，倍率還可調(diào)整。
★ 防止充放電的噴鍍功能
備有離子束濺射功能（選配項(xiàng)）
可以噴涂顆粒感良好的薄涂層。
于象EBSD等需要花樣識(shí)別等情況。
★ 平面離子減薄樣品架
以小角度的離子束低角度照射樣品，達(dá)到清除表面污垢、平滑表面等效果。
另外也非常適合于選擇性蝕刻。
★ 截面樣品制備單元
安裝在平面離子減薄樣品架上使用。該單元可用于在旋轉(zhuǎn)樣品的同時(shí)進(jìn)行離子束加工。
可以用來制備象多孔質(zhì)材料、粉末、纖維等容易出現(xiàn)加工條紋的樣品的截面。
| 離子加速電壓 | 2 ～ 8 kV |
| 離子束直徑 | 500 um( FWHM) |
| 研磨速率 | 500 um（兩小時(shí)的平均值、8 kV、硅材質(zhì)換算、突出量:100 um） |
| 樣品架冷卻達(dá)到的溫度 | -120 ℃ |
| 樣品冷卻持續(xù)時(shí)間 | 8小時(shí)以上 |
| 制冷箱容量 | 約1升 |
| 承載樣品的尺寸 | 11mm(長) × 8mm（寬）× 3mm（厚） |
| 樣品臺(tái)移動(dòng)范圍 | X軸：±6mm、Y軸：±2.5mm |
| 固定樣品方法 | 夾式 |
| 樣品加工擺角 | ±30° |
| 加工觀察用相機(jī)的倍率 | 約20～100倍（6.5寸顯示器上） 機(jī)械泵: 150 mm（寬） × 427 mm（長） × 230 mm（高）、約16 kg |
| 空氣隔離系統(tǒng) | 轉(zhuǎn)移艙 |
| 空氣隔離法 | 將艙內(nèi)設(shè)定成氬氣氣氛，蓋上轉(zhuǎn)移艙蓋子，將樣品封在艙里。 |
| 操作方法 | 觸控屏、6.5寸顯示器 |
| 使用氣體 | 氬氣(用質(zhì)量流量控制器控制流量) |
| 壓力測(cè)試 | 潘寧真空計(jì) |
| 主抽真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵 |
| 輔助抽真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵 |
| 尺寸、重量 | 主機(jī)：約670mm (寬) × 720mm(長) × 530mm(高)、約73kg 機(jī)械泵：約150 mm (寬) × 430 mm(長) × 230 mm(高)、約16kg |
| 選配件 | 大型旋轉(zhuǎn)樣品架（IB‐11550LSRH)、（IB‐11550LSRH) 基座樣品架 （IB‐11560MBSH) 大型樣品架（IB-11570LSH) 噴碳樣品架（IB-12510CCH） |
| 電源 | 單相100～120 V±10%、50/60 Hz、0.6 kVA |
| 接地線 | 獨(dú)立地線(100 Ω以下) |
| 氬氣 | 使用壓力：0.15±0.05 MPa(1.0 ～ 2.0 kg/cm2) 純度99.9999%以上(氬氣、氣瓶及調(diào)壓器由客戶自備) 金屬配管連接口:JISB0203 RC1/4 |
| 室溫 | 15～25 ℃ |
| 濕度 | 60%以下 |
