自從業界選擇遵循EUV路徑以來，Isteq集團一直在研究這項技術。我們開發了一種基于激光等離子體（LPP）的EUV源。光源具有的亮度和的穩定性。它還具有可更新的燃料，不會中斷，也無需更換燃料盒，因此為行業提供了的正常運行時間。
我們為LPP源開發的燃料特定于特定應用的光譜范圍。但是，對于掩模檢測應用，我們開發了一種高頻錫旋轉靶，該靶材已在范圍內獲得。
由于我們的團隊在該領域獲得的經驗和專業知識，我們用于生產EUV的技術與其他競爭對手相比具有許多優勢。ISTEQ的XWS光源產品經過專門開發，可用于各種應用，包括光譜學，高分辨率顯微鏡，薄膜測量，表面測量等。 這些資源基于技術，并受到的保護。?
ISTEQ等離子體EUV光源TEUS參數
| 型號 | TEUS S-100 | TEUS S-200 | TEUS S-400 |
|---|---|---|---|
| 激光平均功率W | 100 | 200 | 400 |
| 脈沖重頻 kHz | 25或70 | 50或135（可調） | 100或200（可調） |
| EUV功率立體角 sr | 0.05 | ||
| 等離子體尺寸 μm | ≤ 60或 ≤ 40 | ≤ 60或 ≤ 45 | |
| 帶內輻射轉換效率(13.5 nm±1%) | 2 % @2π·sr or 1.6% @2π·sr | ||
| 碎片處理系統后角內光通量mW | 11 或 9 | 22 或 18 | 44 或 40 |
| 碎片處理系統后光譜亮度W/mm2·sr | ≥ 80或 ≥ 140 | ≥ 160或 ≥ 280 | ≥ 310或 ≥ 500 |
| 等離子體穩定性 | 3% rms | ||
| 在24/7運行狀態下，在不使用特殊膜過濾器情況下，收集器壽命下降10% | 不少于8個月 | 不少于4個月 | 不少于2個月 |
| 在24/7運行狀態下，使用特殊膜過濾器情況下，收集器壽命下降10% | 不少于18個月 | 不少于9個月 | 不少于4個月 |
| 維護時間間隔 | 4 個月 - 1 天 | 3個月 - 2天 | 2個月 - 1天 |
| 24/7 運行模式下的正常運行時間*** | 4個月 | 3個月 | 1個月 |
| 電源 | 5 kW | 8.5 kW | 10.5 kW |
| 尺寸（長×寬×高）mm | 1500×1000×1200 | ||
| 重量，包括激光組件 kg | 770 | ||
| 房間潔凈度等級 | ISO 7 | ||
| 水流量 | 10升/分鐘 | 15升/分鐘 | 25升/分鐘 |
產品特點：
- 高亮度以及出色的穩定性
- 最少的碎片
- 的正常運行時間
- 高占空比和交鑰匙操作
- 用戶友好的自動化協議，確保系統平穩運行，沒有中斷的風險。
產品應用：
- 掩模和表面檢查：
- 圖案掩模檢測 (PMI)
- 區域掩模檢測 (AIMS)
- 掩模空白檢測 (MBI)
- EUV 掃描儀檢
- 材料科學
- 晶圓檢查
