薄膜制備高溫蒸鍍儀KT-Z1650CVD，臺(tái)式設(shè)計(jì)、軟件自動(dòng)操控、高性價(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。
通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的示意圖。
以下是不同真空度 不同鍍膜時(shí)間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜 
115A 100秒 機(jī)械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
★ 玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察；
★ 復(fù)合分子泵和直聯(lián)旋片泵，大抽速準(zhǔn)無油真空系統(tǒng)（分子泵抽速≥400L/S）；
★ 兩組水冷式蒸發(fā)電極，可長時(shí)間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì)；
★ 專業(yè)真空蒸發(fā)電源，數(shù)顯工作電流和電壓，恒流輸出；
★ 可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；
★ 可調(diào)速旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)使薄膜更均勻
★ 可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO3, LiF等）及有機(jī)物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★ 7寸顯示器定時(shí)定點(diǎn)調(diào)節(jié)電流，達(dá)到控制功率效果
★ 具有記憶儲(chǔ)存功能，直接調(diào)出已儲(chǔ)存的數(shù)據(jù)進(jìn)行鍍膜達(dá)到同樣工藝效果
★ 配置了靶臺(tái)擋板，可手動(dòng)調(diào)節(jié)或自動(dòng)調(diào)節(jié)擋板，及時(shí)遮擋樣品，保證樣品效果
小型蒸鍍儀技術(shù)資料
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調(diào)整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
最1大功率 | ≤1200W |
最1大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （最1大可安裝φ50基底） |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類型 | 鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩 |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
可選配擴(kuò)展 | 機(jī)械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數(shù)顯真空計(jì)（測(cè)量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機(jī)組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
技術(shù)支持&服務(wù)：
1. 技術(shù)支持：在合同簽訂之前，我們的專業(yè)工程師會(huì)在充分了解客戶需求的前提下，為客戶做出*的選型和方案設(shè)計(jì)，使客戶充分了解并理解產(chǎn)品技術(shù)指標(biāo)、性能用途、使用場(chǎng)合、安全注意事項(xiàng)等，以幫助客戶做出正確的選擇。
2. 安裝與培訓(xùn)：在產(chǎn)品使用前，我們會(huì)派專業(yè)工程師為您提供現(xiàn)場(chǎng)技術(shù)支持、培訓(xùn)及演示服務(wù)。
3. 產(chǎn)品質(zhì)保：我們對(duì)產(chǎn)品提供12個(gè)月的質(zhì)保期，在質(zhì)保期內(nèi)發(fā)生設(shè)備或配件損壞由公司負(fù)責(zé)賠償或免費(fèi)維修。（耗材和易損件除外）
4. 終身維護(hù)：我們對(duì)提供的產(chǎn)品提供終身服務(wù)，對(duì)于超過質(zhì)保期限的維修、維護(hù)僅收取材料費(fèi)，免除一切人工費(fèi)用。
