基板加熱器THERMOCERA陶瓷頂部加熱器VH系列
基板加熱器，超高溫真空用BH加熱器，BHS-1KA-P-R0，BHS-1CC-P-R0，BHS-1Ta-P-R0，BHS-2KA-P-R0，BHS-2CC-P-R0，BHS-2Ta-P-R0，BHS-4KA-P-R0，BHS-4CC-P-0，BHS-4Ta-P-R0，VH系列基板加熱器，陶瓷頂部加熱器，VH-2-1000-GS-02
基板加熱器THERMOCERA陶瓷頂部加熱器VH系列
基板加熱器THERMOCERA陶瓷頂部加熱器VH系列
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產品介紹
超高溫真空用BH加熱器
高真空兼容 3 種加熱器材料可供選擇。
可應用于PVD（濺射、氣相沉積、EB等）、高溫真空退火、高溫分析用基板臺等。
Φ1、2、4英寸真空薄膜實驗基板加熱器，供大學、科研單位使用。提供 3 種類型的加熱絲選項（Kanthal、C/C 復合材料、Ta）。可作為各種薄膜實驗的基板加熱臺。
VH 系列基板加熱器
VH加熱器Max1600℃
高規格“多功能”基板加熱臺，支持廣泛的應用，具有 3 種用于超高溫和超高真空的加熱器材料選項。
對于VH（多功能加熱器），通過標準化外殼、屏蔽、電極部件、加熱線等，可以縮短從制造到交貨的周期。采用 SiC3 涂層、TiC 涂層和 PG/PBN 加熱器的加熱器系列，支持廣泛的應用。
SH系列基材加熱加熱器
具有性價比的高溫加熱器，適用于高真空、惰性氣體和活性氣體中的薄膜實驗
“SH系列”Incone/BN板基板加熱加熱器采用氣密結構加熱器塊，可防止工藝氣體和體積的侵入，非常適合CVD等薄膜實驗。工作溫度Max850℃(SH-IN) Max1100℃(SH-BN)，加熱有效面積φ1.0~6.1inch。標配板固定夾（固定在屏蔽罩表面）和 K 型護套熱電偶，可選配真空引入法蘭（ICF、VG、NW 等）、板旋轉機構、底座法蘭和板偏置規格也可以制造。
HS熱臺基板加熱
加熱、基板垂直移動、基板旋轉、RF/DC基板偏壓
各種功能，如向上或向下沉積、定制基板支架、基板旋轉/上/下升降、傾斜加熱、RF/DC基板偏壓等都包含在這一單元中。
熱臺是一個“一體化”設備，配備了基板加熱臺所需的各種功能，例如垂直升降機構（基板臺、加熱頭或兩者）、基板旋轉和RF/DC基板偏壓。一”組件。我們將滿足半導體制造設備和各種真空設備（蒸鍍設備、濺射設備、CVD設備）等各種要求。
HT基板加熱器
高溫加熱器1900℃
采用SiC3、TiC3加熱器，超高溫定制加熱器。
高規格基板加熱臺，支持需要高純度、耐熱性和高耐腐蝕性的惡劣工藝環境。
HT 系列產品采用 SiC3（碳化硅）和 TiC3（碳化鈦）涂層絞線，可支持需要高純度、耐腐蝕和耐熱性的惡劣工藝環境。請告知規格條件，我們每次都會根據客戶的要求進行定制。
