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    • Zeta-300 多模式光學(xué)輪廓儀

    Zeta-300 Zeta-300 多模式光學(xué)輪廓儀

    參考價
    面議
    具體成交價以合同協(xié)議為準
    • 型號Zeta-300
    • 品牌
    • 所在地
    • 更新時間2023-07-20
    • 廠商性質(zhì)其他
    • 所在地區(qū)上海
    • 實名認證已認證
    • 產(chǎn)品數(shù)量15
    • 人氣值217
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    Zeta-300 多模式光學(xué)輪廓儀
    Zeta-300 多模式光學(xué)輪廓儀 產(chǎn)品詳情

    Zeta-300光學(xué)輪廓儀是非接觸式3D表面形貌測量系統(tǒng),具有集成的隔震系統(tǒng)和靈活的配置。該系統(tǒng)采用ZDot™技術(shù)和Multi-Mode (多模式)光學(xué)系統(tǒng),可以對各種不同的樣品進行測量:透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理,以及納米至毫米級別的臺階高度。

    Zeta-300的配置靈活并易于使用,并集合了六種不同的光學(xué)量測技術(shù)。ZDot™測量模式可同時采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無限遠焦點圖像。其他3D測量技術(shù)包括白光干涉測量、Nomarski干涉對比顯微鏡和剪切干涉測量。ZDot或集成寬帶反射儀都可以對薄膜厚度進行測量。Zeta -300提供全面的臺階高度、粗糙度和薄膜厚度測量,以及缺陷檢測能力,支持研發(fā)和生產(chǎn)環(huán)境。

    二、 功能

    主要功能

    臺階高度:納米到毫米級別的3D臺階高度

    紋理:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

    外形:3D翹曲和形狀

    應(yīng)力:2D薄膜應(yīng)力

    薄膜厚度:30nm到100μm透明薄膜厚度

    缺陷檢測:捕獲大于1μm的缺陷

    缺陷復(fù)檢:采用KLARF文件作為導(dǎo)航以測量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置


    技術(shù)特點

    Zeta-300是采用ZDot和Multi-Mode(多模式)光學(xué)器件的簡單易用的光學(xué)輪廓儀,具有廣泛的應(yīng)用:

    可用于樣品復(fù)檢或缺陷檢測的高質(zhì)量顯微鏡。

    Z-Dot:同時采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無限遠焦點圖像

    ZXI:白光干涉測量技術(shù),適用于Z向分辨率高的廣域測量

    ZIC:干涉對比度,適用于亞納米級別粗糙度的表面并提供其3D定量數(shù)據(jù)

    ZSI:剪切干涉測量技術(shù)提供z向高分辨率圖像

    ZFT:使用集成寬帶反射計測量膜厚度和反射率

    AOI:自動光學(xué)檢測,并對樣品上的缺陷進行量化

    生產(chǎn)能力:通過測序和圖案識別實現(xiàn)全自動測量,支持3D Scanning

    大尺寸Wafer測量:測量尺寸可擴展至8寸

    技術(shù)能力

    三、應(yīng)用

    肖特玻璃-表面粗糙度

    可用來測試玻璃等透明表面及不透明表面的形貌和表面粗糙度。

    太陽能電池–不同反射率表面形貌測量

    輕松獲得復(fù)雜差異化反射率樣品的表面形貌。

    MEMS器件–臺階高度和粗糙度

    小尺寸樣品nm級臺階精度,大尺寸樣品的亞微米臺階精度。

    鏡頭-完整的表面輪廓

    圖像拼接功能,可獲得大面積樣品的完整表面輪廓。

    高分子薄膜-膜厚測量

    可用于PI和PR薄膜的厚度測量,并可生成整片晶圓上的膜厚mapping。

    藍寶石-圖案化晶片表面缺陷

    可對特定缺陷進行三維輪廓掃描并進行相關(guān)測量,并對晶圓表面缺陷按尺寸、亮度、長寬比等進行分布統(tǒng)計并生成mapping。

    四、其他

    國內(nèi)用戶

    南京大學(xué)

    南京郵電大學(xué)

    國外用戶

    麻省理工學(xué)院

    加州大學(xué)達拉斯分校

    耶魯大學(xué)

    德州大學(xué)分校

    西部數(shù)據(jù)

    應(yīng)用材料

    博世

    萊徹斯特大學(xué)

    希捷

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    關(guān)鍵詞:輪廓儀 顯微鏡
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