適用于TEM，SEM以及LM的樣品制備
的解決方案
Leica EM RES102 是一款的離子束研磨設備，帶有兩個鞍形場離子源，離子束能量可調，以獲得*佳離子研磨結果。
這一款獨立的桌面型設備集 TEM，SEM和LM樣品制備功能于一體，這與市面上其它設備截然不同。除了高能量離子研磨
功能外，徠卡EM RES102還可用于低能量極溫和的離子束研磨過程。
TEM 樣品
› 單面或雙面離子束研磨適用于材料的離子束減薄過程。鞍形場離子源可獲得很大的電子束透明薄區(qū)。
› 程序化控制的離子入射角度變化，適用于完成特殊的樣品制備目的，例如FIB樣品清潔，以減少無定形非晶層。
SEM 或 LM 樣品
› 離子束拋光*大拋光區(qū)域可達25mm。
› 離子束清潔適用于對樣品表面污染層或機械拋光后表面產(chǎn)生的涂抹層進行清潔。
› 樣品表面襯度增強作用，可替代化學刻蝕作用。
› 35°斜坡切割用于制備多層樣品的截面。
› 90°斜坡切割用于制備復合結構的半導體樣品或組裝器件，這種方式所需的機械預加工工作*少 。
TEM, SEM 或 LM樣品制備
- 在于您的選擇
為了支持多樣化的應用需求，Leica EM RES102 可以裝配各種樣品臺以適用于TEM，SEM及LM樣品制備。預抽室
系統(tǒng)實現(xiàn)樣品快速交換，從而可有效提高樣品交換效率 。
SEM
該樣品臺適用于SEM和LM樣品的離子束清潔，拋光和襯度增強，可在環(huán)境溫度下或 LN2制冷情況下使用。SEM樣品臺
可以制備*大尺寸達 25mm 的樣品。適配器用于夾持商品化生產(chǎn)的帶有3.1mm直徑插針的SEM樣品座。
SEM
斜坡切割樣品臺適用于切割樣品獲得縱截面(90°)或斜截面(35°)，便于SEM觀察樣品內部縱向結構，可以在環(huán)境溫度下或LN2 制冷情況下使用。SEM clamp holder to hold small sampleswith maximal dimensions of 5(H) x 7(W) x2(T)mm.This holder can be easily transferredto the SEM without removing the sample.TEM Sample Holder (Quick ClampHolder)for single and double-sided low angle millingdown to 4°.
SEM
薄片樣品臺用于夾持*大尺寸為5(H)×7(W)×2(D) mm樣品。該樣品臺可以很方便地被直接轉移進SEM中，而不需要取出樣
品。
TEM
TEM樣品夾用于單面或雙面離子束減薄，減薄角度可低至4°。
TEM
TEM冷凍樣品夾具與LN2制冷裝置聯(lián)用，用于制備溫度敏感型樣品。
FIB
FIB清潔樣品臺用于清潔FIB樣品，減少表面無定形非晶層。
Leica EM RES102 可對樣品進行離子束減薄，清潔，截面切割，拋光以及襯度增強，這極大滿足了您對應用需求的多樣化和便利性。
操作簡便
› 19”觸摸屏電腦控制單元，監(jiān)控并記錄制樣過程
› 內置應用參數(shù)庫
› 程序化制樣參數(shù)設定，加速初學者學習曲線
› 幫助文件幫助初學者以及對設備進行維護
高效/節(jié)約成本
› TEM，SEM和LM應用功能集于一體
› TEM樣品制備獲得的薄區(qū)大，有效提高了TEM樣品制備效率
› SEM樣品制備*大可達25mm樣品直徑
› 預抽室系統(tǒng)幫助快速交換樣品，減少等待時間，并保證了樣品室的持續(xù)高真空
› 局域網(wǎng)功能方便遠程操控
› LN2樣品臺使得溫度敏感型樣品可在優(yōu)化條件下進行離子研磨
安全
› 精確的自動終止功能，適用于光學終止或透明樣品的法拉第杯終止
› 在制樣過程中可以時時存儲活圖像或視頻
› 離子源和樣品運動馬達驅動，程序化控制，因而可獲得重復性制樣結果
