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1.技術參數：
輸入電壓 | AC220V±10%，50Hz |
工作電壓 | DC2400V |
功率（主機與機械泵） | 500W |
| 工作原理 | 直流濺射 |
可選靶材 | 金、鉑、銀、銅、鋁、鉛等常用金屬 |
真空泵 | 兩級直聯旋片式真空泵 1L/s |
真空腔 | φ128×130mm |
樣品杯 | φ90×1 / φ25×4 / φ15×6 |
整機尺寸（長×寬×高） | 424×271×255（mm） |
重量（主機） | 11 kg |
工作環境 | 溫度 5～40℃，濕度<60% |
存儲環境 | 溫度-10~60℃，濕度<80% |
工作氣體 | Air / Ar |
保護功能 | 過流、真空雙保護 |
2.處理效果：（金靶，顆粒尺寸20~50nm）
處理前
處理后
| 產品名稱 | 參考價 | 地區 | 公司名稱 | 更新時間 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 離子濺射儀（非磁控）型號:HFD-12 | ￥15500 | 北京市 | 北京海富達科技有限公司 | 2024-06-06 | 在線詢價 |
| 小型離子濺射儀 | ￥20668 | 北京市 | 北京海富達科技有限公司 | 2022-12-22 | 在線詢價 |
| 離子濺射儀 | 面議 | 東莞市 | 東莞華雅檢測儀器有限公司 | 2025-05-09 | 在線詢價 |
| 韓國SAM公司離子濺射儀 | 面議 | 廣州市 | 廣州申控儀電科技有限公司 | 2025-03-26 | 在線詢價 |
| COWAQ S150RTL-1自動真空磁控離子濺射鍍膜儀 | 面議 | 杭州市 | 浙江納德科學儀器有限公司 | 2025-01-14 | 在線詢價 |
| 日立離子濺射儀MC1000 Ⅱ | 面議 | 北京市 | 北京思普特科技有限公司 | 2024-11-20 | 在線詢價 |
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