X射線光電子能譜儀（XPS）
ESCA+高性能X射線光電子能譜儀
ESCA+的設計結合了簡便的操作、高通量和*的ESCA技術性能。靈活的“雙束”離子源和電子源，使得用戶可以很輕松的進行復雜的電荷中和以及深度剖析等分析。
Omicron產品所*的模塊化設計使系統擴展和升級非常簡便。可選項包括原位升降溫、AES、UPS、SAM、樣品預處理……，即使是常規XPS系統無法實現的要求，例如TPD（程序升溫脫附實驗）、高壓XPS、高壓催化和復雜樣品制備等，都可以完整的集成到ESCA+系統中。結合了靈活性、高性能和*的控制系統，使ESCA+是任何實驗室進行ESCA研究的理想選擇。
ESCA+特點：
•優秀的能量分辨率與計數率
•微區XPS分析和成像XPS功能
•高效的“雙束”電荷中和技術
•針對快速深度剖析、角分辨XPS進行優化
•全自動的系統控制軟件
•強大的分析軟件
•靈活的配置和諸多的選項
Si 2p 3/2和2p 1/2峰，半高寬FWHM達到0.37 eV Si樣品的角分辨XPS結果 復雜陶瓷樣品中各種元素的定量分析
NanoESCA
全新的NanoESCA系統是專門針對成像XPS分析（iXPS）設計的系統。其特點包括采用了具有大接收角的光發射電子顯微鏡（PEEM）的電子透鏡系統和含誤差修正的能量分析器等特殊設計。后者結合了兩個半球形電子能量分析器，該設計已經申請，并獲得2007年國際R&D 100產品研發大獎。 系統不但可以通過對動能高達1.6 keV的光電子進行能量篩選，從而獲得樣品表面化學組成差異的圖像（iXPS模式），亦可以在PEEM模式中獲得空間分辨率達40 nm的二次電子像。
系統的另一個顯著特征是既可以配合實驗室光源（Al Ka，He I等），也可以與同步輻射光源相結合。
目前在Bessy II上所獲得的iXPS模式水平方向分辨率已達到100 nm水平。NanoESCA的納米級空間分辨率遠遠于目前掃描ESCA 3-10微米的水平分辨率，而與實驗室單色X光源相結合所獲得的水平分辨率也已達到650nm。
GaAs-AlGaAs異質結剖面的成像XPS圖，其中可以分辨出的最細的線條寬度小于100 nm
采用Al K a光源得到的SiO2表面Au的Chessy樣品的Au 4f峰成像XPS結果，圖中Au方格的寬度為1μm。
Al0.98Sn0.02多晶樣品中Al 2p能級的成像XPS圖像。40μm x 40μm
