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反應離子刻蝕(Reactive Ion Etching, RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓，通過產生的等離子體對樣品進行化學和物理刻蝕。矽碁科技提供各類定制化RIE設備，廣泛應用于氧化硅、氮化硅及各類電介質材料刻蝕，此外矽碁還可以提供電感耦合反應離子刻蝕機(ICP-RIE)，該機型可提供更高的等離子濃度，適合金屬等其他材料的刻蝕。
技術參數：
1 基片尺寸可定制；
2 多層式工藝氣體導入，氣體分布均勻；
3 獨立MFC控制箱，可靈活擴充工藝氣路；
4 基板水冷系統，保持刻蝕時基板溫度恒定；
5 刻蝕均勻性優于 ±5%；
| 產品名稱 | 參考價 | 地區 | 公司名稱 | 更新時間 | |
|---|---|---|---|---|---|
| YZD08-2C等離子清洗器 | 面議 | 北京市 | 北京博雅創新科技發展有限公司 | 2023-06-14 | 在線詢價 |
| PT-03-LF等離子清洗器 | 面議 | 北京天科創達科技有限公司 | 2023-06-10 | 在線詢價 | |
| 等離子清洗器 | 面議 | 上海默津儀器設備有限公司 | 2023-06-06 | 在線詢價 | |
| 等離子清洗器YZD08-5C | 面議 | 北京市 | 北京博雅創新科技發展有限公司 | 2023-05-30 | 在線詢價 |
| GV10x順流等離子清洗器 | 面議 | 天津市 | 天津奧辛博科技有限責任公司 | 2023-05-12 | 在線詢價 |
| 眾瀕小型射頻真空等離子清洗機實驗室儀器 | ￥60000 | 上海市 | 上海眾瀕科技有限公司 | 2022-09-17 | 在線詢價 |
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