一、產品名稱概述：
石墨烯光催化漿料膠體磨,石墨烯光觸媒膠體磨,石墨烯*復合膠體磨,石墨烯漿料膠體磨,*漿料膠體磨
二、石墨烯光催化的發展：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）
近年來，光催化還原二氧化碳生成碳氫化合物技術應運而生，該技術既利用了可再生的太陽資源，又可以將工廠和汽車等排放的二氧化碳收集并還原為化學燃料而加以利用。該光催化過程所使用的半導體n型光催化材料在太陽光的激發下產生光生載流子，誘發催化劑催化還原二氧化碳和水合成可利用的碳氫燃料。
石墨烯由于其*的單層二維結構、優良的導電性能巨大的比表面積、*的半整數霍爾效應、*的量子隧道效應以及雙極電場效應等一系列特性，特別是優良的導電性能和巨大的比表面積能很好的改善一般半導體材料可見光利用率低和激發電子-空穴復合概率高等問題，為解決光催化反應中的瓶頸問題提供了可行途徑。
那么石墨烯是如何化繁為簡、化腐朽為神奇的呢？其實是因為其優異的導電性，大的比表面積和結構的靈活性，即使在非常低的重量分數下，石墨烯也可以作為有效的電子傳導網絡，特別有希望提高光催化性能。此外，科學研究表明，常規的光催化材料可通過與石墨烯復合而改變禁帶寬度（半導體材料價帶與導帶之間的距離），為電子的移轉和躍遷創造有利條件，這也是石墨烯具有強大催化作用的原因。
近來表明，單純的石墨烯也能作為光催化劑直接參與催化反應，因此用石墨或氧化石墨烯改性納米材料也被認為在光催化領域具有重要價值。
三、石墨烯光催化復合漿料：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）
為了優化光催化材料，可將石墨烯和傳統光催化劑相復合，與水為介質，混合分散，均勻分散后將石墨烯填充從而來改性和優化光催化劑的性能。但由于石墨烯和傳統光催化劑都需要很好的分散，復合后對于研磨分散的要求更高，一般國產低速的膠體磨已經難以達到分散效果，結合多家環保企業案例，*GMSD2000系列改良型膠體磨進行石墨烯光催化復合漿料的研磨與分散，效果好，效率高。
四、SGN高剪切膠體磨的特點及應用：
1、高剪切膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。
2、上海思峻的高速膠體磨設備在經過了大量的數據研究、計算分析、實踐驗證與反復優化改進后，現在的乳化設備已經擁有一套科學合理的技術參數，不論是在膏霜乳液、食品醬料、藥膏藥劑產品的生產中，還是在新興的新材料、石油、樹脂等領域都有***的表現!歡迎各界人士朋友前來我司考察指導!
3、SGN膠體磨通過與發動機連接的均質頭的高速旋轉，對物料進行剪切，分散，撞擊。這樣物料就會變得更加細膩，促使油水相融。
4、SGN高剪切膠體磨采用***的零部件，并傾盡全力將其優化組合，制成各方面都卓然出眾的藝術級工業化產品。這需要多年的經驗積累，以及技術沉淀，更是將經驗和技術轉化為創新的能力。
5、SGN 納米膠體磨是根據市場上納米級物料難以分散的難題改善的一款超高速膠體磨，比普通的膠體磨的轉速高出7-8倍，高轉速21000rpm，已***應用于納米級白炭黑的分散、納米級石墨烯的分散、納米級金屬氧化物等的分散。
五、GMS2000系列高剪切膠體磨型號表：
型號 | 流量L/H | 轉速rpm | 線速度m/s | 功率kw | 入/出口連接DN |
GMS2000/4 | 300 | 18000 | 51 | 4 | DN25/DN15 |
GMS2000/5 | 1000 | 14000 | 51 | 11 | DN40/DN32 |
GMS2000/10 | 2000 | 9200 | 51 | 22 | DN80/DN65 |
GMS2000/20 | 5000 | 2850 | 51 | 37 | DN80/DN65 |
GMS2000/30 | 8000 | 1420 | 51 | 55 | DN150/DN125 |
石墨烯光催化漿料膠體磨,石墨烯光觸媒膠體磨,石墨烯*復合膠體磨,石墨烯漿料膠體磨,*漿料膠體磨
