等離子體表征分析儀 | ESPion 高級朗繆爾探針 | 等離子體表征分析儀 | |
Hiden EQP是一臺結合質量和能量分析的儀器。用于分析 | ESPion Langmuir 靜電等離子體探針適用于RF和DC等離子 | ||
等離子體中正、負離子、中性粒子以及自由基的種類和 | 體反應器，自動測量、在線顯示和存儲測量參數。ESPion | ||
能量分布。 |
| 在被動射頻補償方面處于*地位，在所有商業化探針 | |
● 刻蝕/沉積過程研究 | ● 磁控濺射沉積過程分析 | 中ESPion具有高的屏蔽阻抗(4.25Mohm at 13.56 MHz | |
cf.100kohm)，也是較快速的脈沖等離子體探針。具有自 | |||
● 離子注入/激光燒蝕 | ● 殘余氣體分析/泄漏檢測 | ||
清洗循環功能，防止探針*污染。 | |||
● 脈沖等離子體研究 |
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| ● 蝕刻/沉積/清潔等離子體 | ● 離子密度 (Ni & Gi) | |
● 粒子通量、方向、能量和原子狀態 | |||
● 質量數：1～300、510、1000、2500amu | ● 脈沖等離子體操作 | ● 等離子體電勢 | |
● 1000eV能量選配；懸浮電位可選至10keV | ● 電子密度(Ne) | ● Debye長度 | |
● 電子附著分析選配 |
| ● 電子溫度(Te & EEDF) | ● 懸浮電位 |
PSM等離子體質量和能量分析儀 | HPR 60分子束取樣質譜儀 | |
PSM是一臺差式泵質譜儀（In-Line Plasma Analysers for | HPR 60適用于常壓下的高速度、無碰撞的分子束分析， | |
Neutrals, Radicals and Ion Analysis），分析等離子過程 | 即常壓下的等離子體過程分析/表征 | |
中的二次離子和中性粒子。 |
| ● 反應動力學 |
● 離子束蝕刻 | ● 等離子體沉積研究 | |
● 常壓等離子體診斷 | ||
● 離子植入/激光燒蝕 | ● 殘余氣體分析 | |
● 燃燒研究–火焰離子化分析 | ||
● 靈敏度高/極穩定的3級過濾四極桿，質量數范圍至2500amu | ||
● 催化研究 | ||
● 脈沖離子計數檢測器，7個數量級的動態范圍 | ||
● CVD/MOCVD–金剛石生長研究 | ||
● 能量分析選件，標準±100eV（1000eV可選 ） | ||
● 大氣輝光放電分析 | ||
● 具有可調諧的離子源，用于表觀勢能譜 | ||
● 集束分析 | ||
● 信號選通分辨率1μs， |
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| ● 閃脫附研究 | |
● 標準分析中性粒子、自由基，正，負離子分析 | ||
● 低、高能量分析選項，分析中性粒子、離子、自由基 | ||
● Mu-Metal, Radio-metal屏蔽可選，高壓操作可選 | ||
● 20、100、1000 mbar取樣壓力選擇 | ||
